LÅYER-one
Kompaktes ALD-System
- Precursoren
- TDMATi, TMA, H₂O
- Vakuum
- Edwards iXH, 100 m³/h
- Aufstellfläche
- 2.000 × 2.575 mm
ANLAGENPROGRAMM · ALD
Atomgenau, geometrieunabhängig, perfekte Barriere — und unendliche Farben.

Kompaktes ALD-System für TiO₂- und Al₂O₃-Schichten: selbstlimitierende Abscheidung Lage für Lage, perfekte Konformität auch bei hohem Aspektverhältnis, Schichtdicke im Nanometerbereich steuerbar. Auf 2 × 2,6 m Aufstellfläche produktionsbereit.
Mikroelektronik und Halbleiter, Optik und Photonik, Energiespeicher und Batterien, Medizinprodukte sowie dekorative Anwendungen mit reproduzierbaren Farben.
Mikroelektronik und Halbleiter, Optik und Photonik, Energiespeicher und Batterien, Medizinprodukte sowie dekorative Anwendungen mit reproduzierbaren Farben.
Ein Schrank, eine Pumpe, drei Precursoren.
Kompaktes ALD-System
| Merkmal | LÅYER-one |
|---|---|
| Schichten | TiO₂, Al₂O₃ |
| Precursoren | TDMATi 300 ml · TMA 300 ml · H₂O 500 ml |
| Primärpumpe | Edwards iXH, 100 m³/h |
| Ventile | Gate-Ventil DN40, zwei Eckventile DN25, pneumatisch |
| Druckmessung | Baratron DN16 (Prozess), Pirani DN16 |
| Schrank B × H | 800 × 1.810 mm, Bedienfeld auf 1.474 mm |
| Breite mit Pumpe | 1.590 mm |
| Aufstellfläche | 2.000 × 2.575 mm |
| Anschlüsse | Druckluft 5–6 bar, N₂ 2 bar, Vakuum, Kühlwasser, Netzwerk, Strom |
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