LÅYER-one
Installation ALD compacte
- Précurseurs
- TDMATi, TMA, H₂O
- Vide
- Edwards iXH, 100 m³/h
- Emprise au sol
- 2 000 × 2 575 mm
GAMME D’ÉQUIPEMENTS · ALD
Précision atomique, indépendance géométrique, excellentes barrières et couleurs infinies.

Installation ALD compacte pour couches TiO₂ et Al₂O₃ : dépôt autolimitant couche par couche, couverture conforme même à fort rapport d’aspect et maîtrise nanométrique de l’épaisseur. Prête pour la production sur 2 × 2,6 m.
Microélectronique et semi-conducteurs, optique et photonique, stockage d’énergie et batteries, dispositifs médicaux et applications décoratives exigeant des couleurs reproductibles.
Microélectronique et semi-conducteurs, optique et photonique, stockage d’énergie et batteries, dispositifs médicaux et applications décoratives exigeant des couleurs reproductibles.
Une armoire, une pompe, trois précurseurs.
Installation ALD compacte
| Caractéristique | LÅYER-one |
|---|---|
| Revêtements | TiO₂, Al₂O₃ |
| Précurseurs | TDMATi 300 ml · TMA 300 ml · H₂O 500 ml |
| Pompe primaire | Edwards iXH, 100 m³/h |
| Vannes | Vanne à tiroir DN40, deux vannes d’angle pneumatiques DN25 |
| Mesure de pression | Baratron DN16 (procédé), Pirani DN16 |
| Armoire L × H | 800 × 1 810 mm, pupitre à 1 474 mm |
| Largeur avec pompe | 1 590 mm |
| Emprise au sol | 2 000 × 2 575 mm |
| Raccordements | Air comprimé 5–6 bar, N₂ 2 bar, vide, eau de refroidissement, réseau, électricité |
L’ÉTAPE SUIVANTE
Décrivez vos pièces, votre cadence et votre procédé. Nous vous proposerons une évaluation, avec revêtement d’échantillons et démonstration sur demande.