LÅYER-one
紧凑型 ALD 设备
- 前驱体
- TDMATi, TMA, H₂O
- 真空
- Edwards iXH, 100 m³/h
- 占地面积
- 2,000 × 2,575 mm
设备系列 · ALD
LÅYER-one：原子层沉积。
原子级精度，不受几何形状限制，卓越阻隔性能与丰富色彩。
NOVA VacoraALD LÅYER-one 咨询
用于 TiO₂ 和 Al₂O₃ 涂层的紧凑型 ALD 设备：自限性逐层沉积，即使高深宽比结构也能共形覆盖，厚度控制达到纳米级。占地 2 × 2.6 m 即可投入生产。
- nm
- 精确涂层厚度
- 2
- 涂层体系：TiO₂ 和 Al₂O₃
- ∞
- 无限色彩
适用对象与优势
适用对象。
微电子与半导体、光学与光子学、储能与电池、医疗器械，以及需要可重复色彩的装饰应用。
选择理由 ALD LÅYER-one.
- 自限性逐层沉积
- 复杂几何形状的共形覆盖
- 致密、低孔隙率且具有化学与热稳定性的涂层
- 阻隔与介电性能
- 色彩均匀性与材料利用效率
适用对象。
微电子与半导体、光学与光子学、储能与电池、医疗器械，以及需要可重复色彩的装饰应用。
选择理由 ALD LÅYER-one.
- 自限性逐层沉积
- 复杂几何形状的共形覆盖
- 致密、低孔隙率且具有化学与热稳定性的涂层
- 阻隔与介电性能
- 色彩均匀性与材料利用效率
设备。
一个机柜、一台泵、三种前驱体。
LÅYER-one紧凑型 ALD 设备
- 前驱体
- TDMATi, TMA, H₂O
- 真空
- Edwards iXH, 100 m³/h
- 占地面积
- 2,000 × 2,575 mm
技术参数
- 涂层
- TiO₂, Al₂O₃
- 前驱体
- TDMATi 300 ml · TMA 300 ml · H₂O 500 ml
- 主泵
- Edwards iXH, 100 m³/h
- 阀门
- DN40 闸阀、两个气动 DN25 角阀
- 压力测量
- Baratron DN16（工艺）、Pirani DN16
- 机柜 宽 × 高
- 800 × 1,810 mm，操作面板高度 1,474 mm
- 含泵宽度
- 1,590 mm
- 占地面积
- 2,000 × 2,575 mm
- 接口
- 压缩空气 5–6 bar、N₂ 2 bar、真空、冷却水、网络及电力
| 特性 | LÅYER-one |
|---|---|
| 涂层 | TiO₂, Al₂O₃ |
| 前驱体 | TDMATi 300 ml · TMA 300 ml · H₂O 500 ml |
| 主泵 | Edwards iXH, 100 m³/h |
| 阀门 | DN40 闸阀、两个气动 DN25 角阀 |
| 压力测量 | Baratron DN16（工艺）、Pirani DN16 |
| 机柜 宽 × 高 | 800 × 1,810 mm，操作面板高度 1,474 mm |
| 含泵宽度 | 1,590 mm |
| 占地面积 | 2,000 × 2,575 mm |
| 接口 | 压缩空气 5–6 bar、N₂ 2 bar、真空、冷却水、网络及电力 |
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