设备系列 · 电弧、溅射、复合处理

Asgard 系列:全系列 PVD。

灵活满足工艺需求,从标准到定制尺寸,从电弧到 DLC。

NOVA Asgard 系列 PVD 涂层设备,带操作终端与信号灯

从 Freya 到 Odin 的通用 PVD 设备:电弧、磁控溅射和复合处理可在同一腔体内组合。通过 PVD 和 PECVD 沉积 DLC。矩形源、最多四种靶材,涂层空间最大 Ø 1,200 × 1,200 mm。

4
靶材 + 双重处理
Ø 1,200
mm,Odin 涂层工作空间
22
Asgard 系列涂层
适用对象与优势

适用对象。

适用于零件种类广泛的专业涂层企业与自有涂层生产商:切削、成形、压铸、塑料模具和零部件,尤其适合需要多种工艺和定制尺寸的场景。

选择理由 Asgard 系列.

  • 同一设备内实现电弧、磁控溅射与混合工艺
  • 双重处理:同一腔室内完成等离子渗氮与 PVD
  • 通过 PVD 和 PECVD 制备 DLC,支持装饰色彩
  • 按需求定制尺寸与技术
  • 22 种涂层适用于 Asgard 设备,同时提供 Nova 涂层服务

适用对象。

适用于零件种类广泛的专业涂层企业与自有涂层生产商:切削、成形、压铸、塑料模具和零部件,尤其适合需要多种工艺和定制尺寸的场景。

选择理由 Asgard 系列.

  • 同一设备内实现电弧、磁控溅射与混合工艺
  • 双重处理:同一腔室内完成等离子渗氮与 PVD
  • 通过 PVD 和 PECVD 制备 DLC,支持装饰色彩
  • 按需求定制尺寸与技术
  • 22 种涂层适用于 Asgard 设备,同时提供 Nova 涂层服务

四款型号,从 Freya 到 Odin。

同一种技术,四种有效工作空间;Odin 为大型电弧设备。

Freya紧凑型全系列设备
有效工作空间
Ø 450 × 700 mm
周期时间
4.5–12 小时
镀膜源
2 或 4
Freya 咨询
ThorNOVA 基地使用的中型设备
有效工作空间
Ø 700 × 760 mm
周期时间
4.5–12 小时
镀膜源
4
Thor 咨询
Njörd适用于长零件的高腔室
有效工作空间
Ø 700 × 1,275 mm
周期时间
6–16 h
镀膜源
8
Njörd 咨询
Odin适用于特殊规格的大型设备
有效工作空间
Ø 1,200 × 1,550 mm
周期时间
7–18 h
镀膜源
8
Odin 咨询
技术参数
特性FreyaThorNjördOdin
有效工作空间Ø 450 × 700 mmØ 700 × 760 mmØ 700 × 1,275 mmØ 1,200 × 1,550 mm
涂层工作空间(高精度)Ø 450 × 500 mmØ 650 × 500 mmØ 650 × 1,140 mmØ 1,200 × 1,200 mm
主轴4 / 85 / 125 / 12取决于配置
每批容量(Ø 10 × 70 mm)5768641,782取决于配置
周期时间4.5–12 小时4.5–12 小时6–16 h7–18 h
镀膜源(矩形)2 或 4488
电弧 · 溅射 · 混合工艺是 · 是 · 是是 · 是 · 是是 · 是 · 是电弧
双重处理(等离子渗氮 + PVD)jajajaja
刻蚀GD / MIE / BalderGD / MIE / BalderGD / MIE / BalderGD / MIE / Balder

周期时间取决于涂层、工具及是否使用等离子渗氮。完整规格可咨询获取。

Freya

紧凑型全系列设备

有效工作空间
Ø 450 × 700 mm
周期时间
4.5–12 小时
镀膜源
2 或 4
Freya 咨询

Thor

NOVA 基地使用的中型设备

有效工作空间
Ø 700 × 760 mm
周期时间
4.5–12 小时
镀膜源
4
Thor 咨询

Njörd

适用于长零件的高腔室

有效工作空间
Ø 700 × 1,275 mm
周期时间
6–16 h
镀膜源
8
Njörd 咨询

Odin

适用于特殊规格的大型设备

有效工作空间
Ø 1,200 × 1,550 mm
周期时间
7–18 h
镀膜源
8
Odin 咨询
特性FreyaThorNjördOdin
有效工作空间Ø 450 × 700 mmØ 700 × 760 mmØ 700 × 1,275 mmØ 1,200 × 1,550 mm
涂层工作空间(高精度)Ø 450 × 500 mmØ 650 × 500 mmØ 650 × 1,140 mmØ 1,200 × 1,200 mm
主轴4 / 85 / 125 / 12取决于配置
每批容量(Ø 10 × 70 mm)5768641,782取决于配置
周期时间4.5–12 小时4.5–12 小时6–16 h7–18 h
镀膜源(矩形)2 或 4488
电弧 · 溅射 · 混合工艺是 · 是 · 是是 · 是 · 是是 · 是 · 是电弧
双重处理(等离子渗氮 + PVD)jajajaja
刻蚀GD / MIE / BalderGD / MIE / BalderGD / MIE / BalderGD / MIE / Balder

周期时间取决于涂层、工具及是否使用等离子渗氮。完整规格可咨询获取。

工艺。

  • 采用矩形镀膜源的电弧蒸发
  • 磁控溅射与混合工艺(Freya、Thor、Njörd)
  • 双重处理:同一批次完成等离子渗氮和 PVD
  • 通过 PVD 和 PECVD 制备 DLC
  • 采用辉光放电、MIE 或 Balder 刻蚀

Asgard 系列涂层体系。

Asgard 设备提供 22 种涂层,Nova 同时提供这些涂层的加工服务。NOVA ta-C 和 DIANOVA 由外部合作伙伴提供,作为服务项目的补充;它们无法在 Asgard 设备上沉积。

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请描述您的零件、产能与工艺。我们将提供评估,并可按需安排样件涂层与设备演示。

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