Freya
紧凑型全系列设备
- 有效工作空间
- Ø 450 × 700 mm
- 周期时间
- 4.5–12 小时
- 镀膜源
- 2 或 4
设备系列 · 电弧、溅射、复合处理
灵活满足工艺需求,从标准到定制尺寸,从电弧到 DLC。

从 Freya 到 Odin 的通用 PVD 设备:电弧、磁控溅射和复合处理可在同一腔体内组合。通过 PVD 和 PECVD 沉积 DLC。矩形源、最多四种靶材,涂层空间最大 Ø 1,200 × 1,200 mm。
适用于零件种类广泛的专业涂层企业与自有涂层生产商:切削、成形、压铸、塑料模具和零部件,尤其适合需要多种工艺和定制尺寸的场景。
适用于零件种类广泛的专业涂层企业与自有涂层生产商:切削、成形、压铸、塑料模具和零部件,尤其适合需要多种工艺和定制尺寸的场景。
同一种技术,四种有效工作空间;Odin 为大型电弧设备。
| 特性 | Freya | Thor | Njörd | Odin |
|---|---|---|---|---|
| 有效工作空间 | Ø 450 × 700 mm | Ø 700 × 760 mm | Ø 700 × 1,275 mm | Ø 1,200 × 1,550 mm |
| 涂层工作空间(高精度) | Ø 450 × 500 mm | Ø 650 × 500 mm | Ø 650 × 1,140 mm | Ø 1,200 × 1,200 mm |
| 主轴 | 4 / 8 | 5 / 12 | 5 / 12 | 取决于配置 |
| 每批容量(Ø 10 × 70 mm) | 576 | 864 | 1,782 | 取决于配置 |
| 周期时间 | 4.5–12 小时 | 4.5–12 小时 | 6–16 h | 7–18 h |
| 镀膜源(矩形) | 2 或 4 | 4 | 8 | 8 |
| 电弧 · 溅射 · 混合工艺 | 是 · 是 · 是 | 是 · 是 · 是 | 是 · 是 · 是 | 电弧 |
| 双重处理(等离子渗氮 + PVD) | ja | ja | ja | ja |
| 刻蚀 | GD / MIE / Balder | GD / MIE / Balder | GD / MIE / Balder | GD / MIE / Balder |
周期时间取决于涂层、工具及是否使用等离子渗氮。完整规格可咨询获取。
紧凑型全系列设备
NOVA 基地使用的中型设备
适用于长零件的高腔室
适用于特殊规格的大型设备
| 特性 | Freya | Thor | Njörd | Odin |
|---|---|---|---|---|
| 有效工作空间 | Ø 450 × 700 mm | Ø 700 × 760 mm | Ø 700 × 1,275 mm | Ø 1,200 × 1,550 mm |
| 涂层工作空间(高精度) | Ø 450 × 500 mm | Ø 650 × 500 mm | Ø 650 × 1,140 mm | Ø 1,200 × 1,200 mm |
| 主轴 | 4 / 8 | 5 / 12 | 5 / 12 | 取决于配置 |
| 每批容量(Ø 10 × 70 mm) | 576 | 864 | 1,782 | 取决于配置 |
| 周期时间 | 4.5–12 小时 | 4.5–12 小时 | 6–16 h | 7–18 h |
| 镀膜源(矩形) | 2 或 4 | 4 | 8 | 8 |
| 电弧 · 溅射 · 混合工艺 | 是 · 是 · 是 | 是 · 是 · 是 | 是 · 是 · 是 | 电弧 |
| 双重处理(等离子渗氮 + PVD) | ja | ja | ja | ja |
| 刻蚀 | GD / MIE / Balder | GD / MIE / Balder | GD / MIE / Balder | GD / MIE / Balder |
周期时间取决于涂层、工具及是否使用等离子渗氮。完整规格可咨询获取。
Asgard 设备提供 22 种涂层,Nova 同时提供这些涂层的加工服务。NOVA ta-C 和 DIANOVA 由外部合作伙伴提供,作为服务项目的补充;它们无法在 Asgard 设备上沉积。


下一步
请描述您的零件、产能与工艺。我们将提供评估,并可按需安排样件涂层与设备演示。