PACVD – plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung

PACVD: 3D-Darstellung des PACVD-Prozesses

Plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung: eine dichte DLC-Schicht aus Gas, Plasma und Spannung.

Die richtige Oberfläche beginnt mit Ihrer Anwendung.

PACVD verbindet Plasma und Gasphasenabscheidung. So entstehen dichte DLC-Schichten bei niedrigen Beschichtungstemperaturen. Welche Schicht zu Ihrem Werkzeug passt, finden wir gemeinsam mit Ihnen heraus.

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